CBRTP | Oferta usług w obszarze nanotechnologii
Centrum Badań i Rozwoju Technologii dla Przemysłu
centrum badań, centrum badań i rozwoju technologii dla przemysłu, narodowe centrum badań
23916
page-template,page-template-full_width,page-template-full_width-php,page,page-id-23916,ajax_fade,page_not_loaded,,select-theme-ver-2.2.1,wpb-js-composer js-comp-ver-4.3.4,vc_responsive

Na przestrzeni lat CBRTP S.A. rozwinęło zaplecze badawcze pozwalające na stworzenie oferty odpowiadającej potrzebom klienta przemysłowego lub akademickiego oraz stało się katalizatorem współpracy pomiędzy tymi jednostkami. Od początku funkcjonowania do dziś, spółka prowadzi badania aplikacyjne i prace rozwojowe samodzielnie oraz w środowisku kooperacji. Poniżej przedstawiamy ofertę skierowaną do różnorodnej grupy odbiorców:

1. Inżynieria powierzchni – systemy do nakładania powłok metodą ALD (ang. Atomic Layer Deposition)

CHARAKTERYSTYKA

Dysponujemy dwoma reaktorami ALD firmy BENEQ. Pozwalają one na nakładanie szerokiego spektrum materiałów tlenkowych i siarczkowych oraz mieszanych, o precyzyjnie określonej grubości od kilku nanometrów po powłoki mikrometrowe. Reakcje prowadzone są w pomieszczeniach cleanroom ISO5 zgodnie z obowiązującymi procedurami, co wpływa na wysoki poziom czystości i jakości procesów. Oferujemy dobór parametrów procesowych do otrzymania docelowej grubości powłok.

ZASTOSOWANIE

  • Wytwarzanie materiałów funkcjonalnych stanowiących:
  • systemy powłok interferencyjnych, takie jak filtry pasmowe, rozdzielacze wiązki, polaryzatory, lustra itp.
  • powłoki antyrefleksyjne
  • kryształy fotoniczne
  • dyfrakcyjne elementy optyczne
  • wysokowydajne siatki transmisyjne lub refleksyjne
  • powierzchnie biokompatybilne lub antybakteryjne
  • powłoki hydrofobowe lub hydrofilowe
  • powłoki barierowe i ochronne
  • membrany dyfuzyjne

2. Obróbka cieplna i plazmowa

Piec tunelowy, promienniki IR, piec komorowy, czyszczenie plazmowe

CHARAKTERYSTYKA

Urządzenia umożliwiają przeprowadzanie w sposób powtarzalny procesów wysokotemperaturowych (uzupełnić T) w atmosferze gazów ochronnych (N2, Ar) – piece oraz w atmosferze powietrza – grzanie powierzchniowe pod promieniowaniem IR.

ZASTOSOWANIE

Procesy wysokotemperaturowe – wygrzewanie, wyżarzanie, utlenianie, trawienie w plazmie

3. Modelowanie i symulacja

Modelowanie przyrządów półprzewodnikowych (oprogramowanie APSYS).

CHARAKTERYSTYKA

Oprogramowanie pozwala na zaawansowane modelowanie przyrządów półprzewodnikowych (oparte na analizie metodą elementów skończonych), ich właściwości elektrycznych, optycznych i termicznych. Nacisk analizy położony jest na inżynierię struktury pasmowej i efekty mechaniki kwantowej.

ZASTOSOWANIE

Do modelowania wstępnego działania i właściwości urządzeń i struktur światłoczułych lub emitujących światło

4. Metody pomiarowe i charakteryzacja materiałów

  • Morfologia powierzchni – skaningowy mikroskop elektronowy Thermofisher –system nabiurkowy pozwalający na szybką (czas przygotowania mikroskopu do pracy – kilka minut)  i dokładną analizę powierzchni i struktur materiałów z dokładnością do kilku nanometrów zarówno w trybie elektronów wstecznie rozproszonych jak i wtórnych.
  • Skład chemiczny pierwiastkowy – Spektroskopia dyspersji energii promieniowania rentgenowskiego – pozwala na identyfikację (powierzchniową i objętościową) pierwiastków chemicznych wchodzących w skład badanego materiału. Może mieć charakter zarówno jakościowy, jak również ilościowy, w przypadku dostępności wzorca
  • Pomiary elektryczne – sonda czteroostrzowa, stacja Corescan do pomiaru rezystancji kontaktów, pomiar efektu Halla
  • Pomiary optyczne – elipsometr monochromatyczny – pozwala na określenie grubości lub współczynnika załamania warstw materiałów (określenie jakie grubości mierzy)